 |
99.999% de pureza Polvo de óxido de itrio para revestimiento resistente al plasma de grado de pulverización térmica en cámaras de semiconductores
Datos del producto:
| Lugar de origen: | Jiangxi, China |
| Nombre de la marca: | High Broad |
| Certificación: | ISO 9001:2015, REACH |
| Número de modelo: | Y2O3-5N |
Pago y Envío Términos:
| Cantidad de orden mínima: | 1000 kilogramo |
|---|---|
| Precio: | USD 5-100 / Kilogram |
| Detalles de empaquetado: | Bolsa interior sellada al vacío con bolsa exterior de papel de aluminio, embalada en bidones de fibr |
| Tiempo de entrega: | 5-15 días hábiles después de la confirmación del pedido |
| Condiciones de pago: | T/T, L/C, PayPal, Western Union |
| Capacidad de la fuente: | 500000 kilogramos por mes |
|
Información detallada |
|||
| Densidad: | 5,01 g/cm³ | superficie específica: | 8-15 m²/g |
|---|---|---|---|
| Tamaño de partícula: | 1 a 5 μm | Punto de fusión: | 2425 °C |
| Estructura cristalina: | Cúbico | Pureza: | 99.999% (5N) |
| Resaltar: | Polvo de óxido de itrio 5N,Grado de revestimiento por rociado térmico,Protección de la cámara de semiconductores |
||
Descripción de producto
Nuestro 99,999% (5N) de óxido de itrio en polvo se fabrica en China utilizando tecnología avanzada de extracción y purificación de tierras raras.Este polvo de grado de rociado térmico Y2O3 está diseñado específicamente para el recubrimiento térmico de componentes de cámaras de semiconductores, ofreciendo una consistencia y un rendimiento excepcionales en ambientes de recubrimiento industriales exigentes.
- Pureza ultra alta de 99,999% (5N) para una contaminación mínima en procesos sensibles de semiconductores
- Distribución optimizada del tamaño de las partículas (1-5 μm D50) para una deposición de pulverización térmica constante
- La excelente resistencia al grabado por plasma prolonga la vida útil de los componentes de la cámara en 3-5 veces
- El alto punto de fusión (2425°C) garantiza la estabilidad del revestimiento bajo ciclos térmicos extremos
- Los niveles bajos de impurezas de Fe, Na, Ca, Si garantizan la pureza del revestimiento y la integridad dieléctrica
| Parámetro | Especificación |
|---|---|
| Purificación | 99.999% (5N) |
| Tamaño de las partículas D50 | 1 a 5 μm |
| Estructura de cristal | Cubico |
| Número CAS | 1314-36-9 |
| Apariencia | Polvo blanco |
| Densidad | 50,01 g/cm3 |
| Punto de fusión | 2425 °C |
| Superficie específica | Entre 8 y 15 m2/g |
Este óxido de itrio en polvo se utiliza ampliamente en el recubrimiento por rociado térmico, la deposición por rociado de plasma, el tratamiento de la superficie de cerámica,y otros procesos industriales de recubrimiento que requieren materiales de tierras raras de alta purezaSu excelente estabilidad térmica, resistencia química y resistencia al grabado de plasma lo hacen ideal para revestimientos protectores en ambientes de trabajo adversos.
Bolsa interna sellada al vacío con capa exterior de papel de aluminio para evitar la absorción de humedad. Envasado en barricas de fibra de 25 kg con desecante. Almacenado en un lugar fresco y seco lejos de ácidos y humedad.
70 Chezhan North Road, Changsha, China, 410100